固体撮像素子および撮像装置

開放特許情報番号:L2026001498 開放特許情報登録日:2026/10/6 最新更新日:2026/10/6

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2022/2/18
公開日
2023/8/30
出願人
日本放送協会
特許権者
日本放送協会
権利化状況
権利化済
発明の名称
固体撮像素子および撮像装置
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造 材料・素材の製造
適用製品
固体撮像素子および撮像装置
目的
光電変換層兼電荷増倍層積層型の3トランジスタ型の各画素において、アバランシェ増倍作用の発生条件下における信号対ノイズの比を改善し得る固体撮像素子および撮像装置を提供する。
効果
光電変換層兼電荷増倍層の不純物濃度を1×10↑(16)cm↑(−3)以下に設定することにより、撮像素子の出力の信号対ノイズの比を向上させることができる。
技術概要
画素回路上に配設した、光電変換層兼電荷増倍層を含む積層体からなる光電変換手段を備えたCMOS型の固体撮像素子であって、
光電変換手段で発生した信号電荷を信号電圧へ変換する浮遊拡散容量を備え、
該浮遊拡散容量は、基板上に設けられたウエル内に配するように構成され、
浮遊拡散容量はn型半導体により構成され、ウエルはp型半導体により構成され、基板の導電型はn型またはp型により構成され、画素電極が浮遊拡散容量に接続された構成とされ、
光電変換手段は、電子注入阻止層、光電変換層兼電荷増倍層、正孔注入阻止層、および膜電極の各層をこの順に画素電極上に積層されてなり、
該膜電極には、画素電極へのリセット電圧に対して正の電圧を印加し、光電変換により発生した電子正孔対のうち正孔を光電変換手段の走行キャリアとして用いるように構成され、
光電変換層兼電荷増倍層の不純物濃度を1×10↑(16)cm↑(−3)以下となるように構成され、
光電変換層兼電荷増倍層に印加される電圧は、光照射時に電流密度が飽和する電圧を基準として設定され、信号電流が前記電流密度が飽和する際の電流密度の10倍となる電圧とされたことを特徴とする固体撮像素子。
イメージ図
実施実績   :
無
許諾実績 :
無
特許権譲渡  :
否
特許権実施許諾:
可
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内): 無
(国外): 無
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