適用製品
本特許は、半導体・液晶製造、精密部品洗浄、水処理設備、食品・医療分野の殺菌・脱臭用オゾンガス供給装置などに適用可能です。
目的
本特許は、従来シリカゲルによる窒素酸化物除去を行うとオゾンまで強く吸着されてしまい、プロセス側に供給するオゾン濃度が不安定になるという課題を解決するために創作されました。窒素酸化物濃度が上昇するタイミングを事前に予測・検知し、その期間だけ吸着剤を通過させることで、窒素酸化物を確実に除去しつつオゾン濃度変動を最小化することを目的としています。
効果
本特許は、窒素酸化物を大幅に低減したオゾンガスを、ほぼ一定濃度で長期間供給できるため、配管腐食や装置故障のリスクを減らし、メンテナンスコストを削減します。また、オゾン濃度の安定化によりプロセス条件の再現性が向上し、製品歩留まりや処理品質が改善されます。さらに窒素酸化物除去用吸着剤の再生・寿命管理を自動化でき、装置運転の省人化・運転効率向上に寄与します。
技術概要
本特許は、窒素酸化物（NOx）を含むオゾンガスを、配管腐食を抑えつつ一定濃度で供給するための「オゾンガス供給方法・システム」です。オゾン発生器の下流に、シリカゲルを充填した吸着器を組み込んだ第1流路と、バイパス的な第2流路を設け、制御部が両流路を自動切替します。電極加熱時などNOx濃度が上昇するタイミングを、オゾン濃度異常や電極温度から事前検知し、その期間だけオゾンを第1流路側に通してNOxを吸着除去します。一方通常時は第2流路を使用しつつ、少量のオゾンを吸着器へ導入して「オゾンを吸いにくい状態」に調整し、別工程で酸素パージと加熱によりNOx吸着能を再生します。これにより、NOxは確実に除去しながらオゾン濃度変動を抑え、装置構成も酸素源をパージガス源と共用することで簡略化できる点が従来技術に対する優位性です。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
