適用製品
本特許は、アルミナ等セラミック皮膜を必要とする各種産業機器に適用できます。具体的には、半導体製造装置部品、液晶・有機ＥＬ製造ラインの耐食部材、樹脂成形金型の耐摩耗コーティング、医療機器部品の高絶縁コーティングなどの製品群への展開が可能です。
目的
本特許は、プラズマ溶射で高品質な皮膜を安定生産したいという現場ニーズから創作されたもので、特に「基材との界面に空隙が多く剥離しやすい」「溶射中のアークが不安定で条件出しに工数がかかる」といった課題を解決することを目的としています。ガス組成を工夫することで、装置側の大掛かりな改造を行わずに品質と安定性を両立します。
効果
本特許は、プラズマ溶射で高品質な皮膜を安定生産したいという現場ニーズから創作されたもので、特に「基材との界面に空隙が多く剥離しやすい」「溶射中のアークが不安定で条件出しに工数がかかる」といった課題を解決することを目的としています。ガス組成を工夫することで、装置側の大掛かりな改造を行わずに品質と安定性を両立します。
技術概要
本特許は、プラズマ溶射の主ガスとして「窒素＋1〜5.5体積％の水素」からなる混合ガスを用いる技術です。従来主流のアルゴン系ガスでは、水素添加で気孔が増え皮膜が粗くなりますが、本混合ガスでは逆に気孔率が約31％低減し、基材界面まで緻密な皮膜を形成できます。また、溶射中のアノード‐カソード間電圧の変動幅が小さいためアークが安定し、条件出しの工数削減や装置停止リスク低減が可能です。設備はガス切替程度で既存ラインに導入できるため、アルミナ溶射の高品質化だけでなく、他セラミック材料や高絶縁・高耐摩耗部品への高信頼コーティング用途に展開できます。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
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