目的
成膜中変化するプラズマによって薄膜の膜質が変化することを抑制することができる薄膜製造方法及び成膜装置を提供する。
効果
成膜中変化するプラズマによって薄膜の膜質が変化することを抑制することができる。
技術概要
処理対象部材の表面に薄膜を形成する薄膜製造方法であって、
成膜室中で、第１８族元素のうち互いに異なる元素の第１希ガスと第２希ガスを少なくとも用いて、スパッタリングで処理対象部材に薄膜を形成するステップと、
前記薄膜の形成中に、前記成膜室で発生するプラズマ中の前記第１希ガスの元素と前記第２希ガスの元素の発光強度比を求めるステップと、
前記薄膜の形成中の前記発光強度比に応じて、第１８族元素のうち、前記第１希ガス及び第２希ガスと異なる元素の第３希ガスを前記成膜室に供給することにより、あるいは前記第３希ガスの供給を調整することにより、前記プラズマの電子温度を調整して前記薄膜の膜質を調整するステップと、を備えることを特徴とする薄膜製造方法。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
