2次元層状物質微細パターン形成方法

開放特許情報番号:L2026001001 開放特許情報登録日:2026/6/26 最新更新日:2026/6/26

基本情報
出願番号
公開番号
出願日
2023/12/28
公開日
2025/7/10
出願人
国立研究開発法人物質・材料研究機構
権利化状況
権利化前
発明の名称
2次元層状物質微細パターン形成方法
開放特許情報
技術分野
機械・加工
機能
機械・部品の製造 その他
適用製品
2次元層状物質微細パターン形成方法
目的
2次元層状物質からなるサブミクロンサイズの微細パターンを簡便にかつ高い品質を伴って形成する方法を提供する。
効果
2次元層状物質からなるサブミクロンサイズの微細パターンを簡便にかつ高い品質を伴って形成する方法が提供される。
技術概要
2次元層状物質からなる微細パターンの形成方法であって、
被形成微細パターン対応部に、凹部または空隙からなる前記被形成微細パターン形状の転写用パターンが形成された、ネガ・ポジ反転の転写用パターン基板を準備する転写用パターン基板準備ステップと、
転写用のハンドリングパッドを備える転写手段を準備する転写手段準備ステップと、
前記2次元層状物質からなるナノシートを準備するナノシート準備ステップと、
前記ナノシートを前記転写用パターン基板の上に配置するナノシート配置ステップと、
前記ハンドリングパッドを前記ナノシートに接触させて、前記転写用パターン基板上に置かれた前記ナノシートから、前記転写用パターン形状のナノシート片を前記ハンドリングパッドに部分的に付着させて剥がすナノシート片取り出しステップと、
前記ハンドリングパッドに付着させた前記ナノシート片を被加工基板に接触させた後、前記被加工基板上に前記ナノシート片を付着させる転写ステップと、
前記ハンドリングパッドを前記被加工基板から引き離すハンドリングパッド離反ステップを有する、2次元層状物質微細パターン形成方法。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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