立体フォトマスク及びその製造方法、露光装置、露光方法
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開放特許情報番号：
L2026000785
開放特許情報登録日：
2026/4/22
最新更新日：
2026/4/22
基本情報
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出願番号
特願2023-193516
公開番号
特開2025-080404
出願日
2023/11/14
公開日
2025/5/26
出願人
学校法人東京電機大学
権利化状況
権利化前
発明の名称
立体フォトマスク及びその製造方法、露光装置、露光方法
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技術分野
情報・通信
機能
機械・部品の製造
その他
適用製品
立体フォトマスク及びその製造方法、露光装置、露光方法
目的
複雑な立体構造のレジストパターンを作製可能な立体フォトマスク及びその製造方法、露光装置、露光方法を提供する。
効果
複雑な立体構造のレジストパターンを作製可能な立体フォトマスクを提供することができる。
技術概要
被露光物に所定パターンを露光する際に用いることができるフォトマスクであって、
感光性樹脂を感光させる波長の光を透過可能な光透過性材料からなり、光の進行方向に対して厚み分布を有する３次元形状体である、立体フォトマスク。
イメージ図
実施実績 ：
無
許諾実績 ：
無
特許権譲渡 ：
否
特許権実施許諾：
可
登録者情報
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登録者名称
東京電機大学
その他の情報
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関連特許
（国内）:
無
（国外）:
無
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