目的
反射型サンプル基板上の欠陥の特性を、非破壊かつ高精度に評価可能な欠陥特性評価装置を提供する。
効果
微小欠陥を露光波長で評価するため、実効的な特性評価が非破壊で可能である。
反射型サンプル基板上の欠陥の特性を、非破壊かつ高精度に評価することができる。
技術概要
反射型サンプル基板上の被検欠陥に対して、実際の露光で利用する波長のコヒーレント光を、該反射型サンプル基板上の被検欠陥と略同一のサイズに集光する集光手段と、
上記反射型サンプル基板上に上記集光手段により集光された上記コヒーレント光を被検パタン領域に照射する照射手段と、
上記照射手段により照射された被検パタン領域からの回折光を２次元的に受光する受光手段と、
上記受光手段による受光結果である画像情報を記録する記録手段と、
上記記録手段により記録された画像情報から、上記被検欠陥の反射振幅と位相分布を反復計算により導出する導出手段とを備え、
上記照射手段は、上記被検パタン領域をスキャンさせながら、上記反射型サンプル基板上の被検欠陥と略同一のサイズに集光された上記コヒーレント光を複数回照射することを特徴とする欠陥特性評価装置。
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開放特許情報
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登録者情報
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