積層体、当該積層体を含む素子及び当該積層体の製造方法

開放特許情報番号:L2026000713 開放特許情報登録日:2026/4/16 最新更新日:2026/4/16

基本情報
出願番号
公開番号
WO2024/171658
出願日
2024/1/10
公開日
2024/8/22
出願人
国立研究開発法人科学技術振興機構
権利化状況
権利化前
発明の名称
積層体、当該積層体を含む素子及び当該積層体の製造方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造 その他
適用製品
積層体、積層体を含む素子及び積層体の製造方法
目的
圧電体層と磁性体層との間の界面の乱れの抑制された積層体、当該積層体を含む素子及び当該積層体の製造方法を提供する。
効果
圧電体層と磁性体層との間の界面の乱れの抑制された積層体、当該積層体を含む素子及び当該積層体の製造方法を提供することができる。
技術概要
圧電性を有する酸化物の結晶からなる圧電体層、
金属層及び
強磁性体であるホイスラー合金の結晶からなる磁性体層を備え、
前記圧電体層、前記金属層及び前記磁性体層がこの順に積層されている積層体。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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