目的
テルルを主成分とする二次元材料を含む部位を容易にドーピングすることが可能な半導体装置を製造する方法を提供する。
効果
テルルを主成分とする二次元材料を含む部位を容易にドーピングすることができる。
技術概要
基板と、前記基板の主面に形成されたテルルを主成分とする未処理の二次元材料層とを含む中間物を準備する工程と、
前記未処理の二次元材料層に不純物をドーピングするための処理液を準備する工程と、
前記処理液に前記中間物を浸す工程と、を有し、
前記処理液は、アミノアルコールを含有する溶液である、半導体装置を製造する方法。
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