二酸化炭素還元触媒の製造方法

開放特許情報番号:L2026000480 開放特許情報登録日:2026/3/2 最新更新日:2026/3/2

基本情報
出願番号
公開番号
出願日
2024/3/4
公開日
2025/9/17
出願人
国立大学法人山口大学
権利化状況
権利化前
発明の名称
二酸化炭素還元触媒の製造方法
開放特許情報
技術分野
機械・加工 金属材料
機能
材料・素材の製造 その他
適用製品
二酸化炭素還元触媒の製造方法、二酸化炭素還元触媒電極、二酸化炭素還元活性を付与する又は二酸化炭素還元活性を向上させる方法
目的
二酸化炭素還元に対する光触媒活性を有する二酸化炭素還元触媒を提供する。さらには、二酸化炭素還元によりC2化合物を生成できる二酸化炭素還元触媒を提供する。
効果
二酸化炭素還元に対する光触媒活性を有する二酸化炭素還元触媒を製造することができる。二酸化炭素還元触媒は、二酸化炭素還元に対する光触媒活性を有し、C2化合物を生成することも可能である。
技術概要
窒素ドープアモルファスシリコンカーバイトを水プラズマ処理又はアンモニアプラズマ処理することにより、二酸化炭素還元触媒を得る二酸化炭素還元触媒の製造方法。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
固定URLをクリップボードにコピーしました。
Copyright © INPIT Rights Reserved