半導体装置

開放特許情報番号:L2026000364 開放特許情報登録日:2026/2/17 最新更新日:2026/2/17

基本情報
出願番号
公開番号
出願日
2023/8/3
公開日
2025/2/14
出願人
慶應義塾
権利化状況
権利化前
発明の名称
半導体装置
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造
適用製品
半導体装置
目的
ゼーベック素子を含む半導体装置のコストを削減し、製造効率を向上する。
効果
ゼーベック素子を含む半導体装置の製造効率を向上できる。
技術概要
半導体基板に形成された相補型電界効果トランジスタと、
前記半導体基板に形成されたゼーベック素子と、
を備える、半導体装置。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
登録者名称
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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