磁気メモリ素子及び磁気メモリ装置

開放特許情報番号:L2026000265 開放特許情報登録日:2026/2/5 最新更新日:2026/2/5

基本情報
出願番号
公開番号
WO2024/095960
出願日
2023/10/30
公開日
2024/5/10
出願人
国立大学法人 東京大学
権利化状況
権利化前
発明の名称
磁気メモリ素子及び磁気メモリ装置
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造 材料・素材の製造
適用製品
磁気メモリ素子及び磁気メモリ装置
目的
フェリ磁性体を用いることにより、外部磁場の擾乱耐性を高め、高速処理を実現する磁気メモリ素子及び磁気メモリ装置を提供する。
効果
異常ホール効果及び異常ネルンスト効果を発現するトポロジカルフェリ磁性体を磁気メモリ素子に用いることにより、外部磁場の擾乱耐性を高め、高速処理を実現することが可能となる。
技術概要
磁気秩序が反転可能な自由層と、
磁気秩序が固定された固定層と、
前記自由層と前記固定層との間に設けられた非磁性層と、
を有する磁気抵抗素子を備え、
前記自由層及び前記固定層の少なくとも一方が、異常ホール効果及び異常ネルンスト効果を発現するトポロジカルフェリ磁性体からなる、磁気メモリ素子。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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