磁気遮蔽システム及び磁気遮蔽方法

開放特許情報番号:L2025001671 開放特許情報登録日:2025/12/16 最新更新日:2025/12/16

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2020/9/15
公開日
2022/3/28
出願人
国立大学法人 東京大学
特許権者
国立大学法人 東京大学
権利化状況
権利化済
発明の名称
磁気遮蔽システム及び磁気遮蔽方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子 情報・通信
機能
制御・ソフトウェア
適用製品
磁気遮蔽システム及び磁気遮蔽方法
目的
外部磁場に対応して均一な微弱磁場を内部空間に生成することが可能な技術を提供する。
効果
シミングプレートを室本体の表面に適宜に着脱させることにより、均一な微弱磁場を、室本体の内部空間に生成することが可能となる。
技術概要
外部環境に存在する磁場を低減させるための磁気遮蔽システムであって、
内部空間を有する室本体と、この室本体の表面に取り付け可能な複数枚のシミングプレートとを備えており、
前記室本体の表面には、任意の枚数の前記シミングプレートを着脱可能な複数のプレート取付部が設けられており、
適宜の位置における前記プレート取付部に、適宜の枚数の前記シミングプレートを取り付けることにより、前記内部空間内における磁場強度を弱めかつ均一化させるようになっている
磁気遮蔽システム。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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