半導体装置及びその製造方法

開放特許情報番号:L2025001664 開放特許情報登録日:2025/12/16 最新更新日:2025/12/16

基本情報
出願番号
公開番号
WO2021/172408
登録番号
出願日
2021/2/25
公開日
2021/9/2
出願人
国立大学法人 東京大学
特許権者
国立大学法人 東京大学
権利化状況
権利化済
発明の名称
半導体装置及びその製造方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造 材料・素材の製造
適用製品
半導体装置、半導体装置の製造方法
目的
従来の方法よりも簡便に製造される薄膜トランジスタを含む半導体装置を提供する。
効果
従来の親撥パターンを利用する方法及びバンクを利用する方法といった煩雑な工程を経ずに有機半導体膜を有する薄膜トランジスタを提供することが可能である。
技術概要
第1導電膜と、
第1導電膜上の絶縁膜と、
絶縁膜上の第2導電膜及び第3導電膜と、
絶縁膜、第2導電膜及び第3導電膜上の有機半導体膜とを含み、
第2導電膜は、第1方向に沿って延在する部分を含み、
第3導電膜は、
第2導電膜から見て、第1方向に位置する第1部分と、
第2導電膜と第1部分の間の領域から見て、第1方向と直交する第2方向に位置する第2部分及び第2方向の反対方向である第3方向に位置する第3部分と、
第2部分から見て、第1方向の反対方向である第4方向に位置する第4部分と、
第3部分から見て、第4方向に位置する第5部分とを含み、
第1部分、第2部分の少なくとも一部及び第3部分の少なくとも一部は、連続して延在し、
絶縁膜の表面自由エネルギーは、第2導電膜の表面自由エネルギー及び第3導電膜の表面自由エネルギーよりも小さく、
第2導電膜と略平行に延在する部分を含み、且つ、該部分が第4部分と第5部分の間に位置する、絶縁膜上の第4導電膜をさらに含み、
第1導電膜は、ゲートとして機能し、
第2導電膜は、ソース及びドレインの一方として機能し、
第4導電膜は、ソース及びドレインの他方として機能する、
半導体装置。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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