目的
単一のミラーであって、鉛直方向と水平方向とで独立して光源位置及び集光位置を設定でき、これにより非点収差の自由な変換が可能であり、また、集光サイズをより小さく抑えてＸ線領域のビームにも対応することができ、設計式も単純で、応用の幅も広く、鉛直方向と水平方向とで特性が異なるビームを取り扱う光学系として好適に用いることができるミラーを作製できる、ミラーの設計方法を提供する。
効果
単一のミラーであって、鉛直方向と水平方向とで独立して光源位置及び集光位置を設定でき、これにより非点収差の自由な変換が可能なミラーを作製できる。また、集光サイズをより小さく抑えてＸ線領域のビームにも対応することができる。さらに、設計式も単純で、応用の幅も広く、鉛直方向と水平方向とで特性が異なるビームを取り扱う光学系として好適に用いることができるミラーを作製できる。
技術概要
反射面上の任意の点をＭとして、第１の光源線とＭ点への入射光線との交点、及び第２の光源線とＭ点への入射光線との交点の各座標を、前記Ｌ↓(１ｘ)、Ｌ↓(１ｙ)を用いて表わし、前記Ｍ点からの出射光線と第１の集光線との交点、及びＭ点からの出射光線と第２の集光線との交点の各座標を、前記Ｌ↓(２ｘ)、Ｌ↓(２ｙ)を用いて表わし、これら座標、及びｘ軸方向及び前記ｙ軸方向についてそれぞれ反射面上の任意の点に関して光源位置から集光位置までの光路長が一定であること、に基づき導かれる反射面の設計式を用いる。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
