目的
鉛直方向と水平方向とで独立して光源位置及び集光位置を設定でき、これにより非点収差の自由な変換が可能であり、また、集光サイズをより小さく抑えてＸ線領域のビームにも対応することができ、設計式も単純で、応用の幅も広く、鉛直方向と水平方向とで特性が異なるビームを取り扱う光学系として好適に用いることができるミラーを作製できる、ミラーの設計方法を提供する。
効果
鉛直方向と水平方向とで独立して光源位置及び集光位置を設定でき、これにより非点収差の自由な変換が可能なミラーを作製できる。また、集光サイズをより小さく抑えてＸ線領域のビームにも対応することができる。さらに、設計式も単純で、応用の幅も広く、鉛直方向と水平方向とで特性が異なるビームを取り扱う光学系として好適に用いることができる。
設置角度誤差に対する耐性を有するミラーを提供することが可能となる。
発散位置において円形状の強度プロファイルを持つビームを形成するミラーを提供することも可能となる。
技術概要
サジタル光源線とＭ↑０↑Ａ点への入射光線との交点、メリディオナル光源線とＭ↑Ａ↑０点への入射光線との交点を定義し、Ｍ↑Ａ↑０点からの出射光線とサジタル仮想集光線との交点、Ｍ↑Ａ↑０点からの出射光線とメリディオナル仮想集光線との交点を定義し、サジタル仮想光源線とＭ↑Ｂ↑０点への入射光線との交点、メリディオナル仮想光源線とＭ↑Ｂ↑０点への入射光線との交点を定義し、Ｍ↑Ｂ↑０点からの出射光線とサジタル集光線との交点、Ｍ↑Ｂ↑０点からの出射光線とメリディオナル集光線との交点を定義し、光源位置から仮想集光位置まで、仮想光源位置から集光位置までの各光路長が一定であることに基づき導かれる反射面の設計式を用いてミラーを設計する。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
