適用製品
遷移金属カルコゲニド薄膜の配向性制御方法、製造方法、製造装置、及び、フレキシブル基板
目的
成膜条件の簡易な制御により、遷移金属カルコゲニド層の配向方向を制御可能な技術を実現する。
効果
成膜条件の簡易な制御により、遷移金属カルコゲニド層の配向方向を制御可能な技術を実現することができる。
技術概要
基体の表面の遷移金属層に対して、単位時間当たりに供給されるカルコゲン材料の量を制御することにより、前記基体の表面に形成される遷移金属カルコゲニド層の配向方向を制御するステップを包含する、遷移金属カルコゲニド薄膜の配向性制御方法。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
