機能
材料・素材の製造
機械・部品の製造
表面処理
適用製品
サファイア基板を処理する方法、サファイア基板の上にエピタキシャル薄膜を形成する方法、サファイア基板、エピタキシャル薄膜、及びそれらを備えるデバイス及び装置
目的
サファイア基板の表面を処理する方法を提供する。
効果
サファイア基板の表面を処理する方法が提供される。
サファイア基板に支持されたエピタキシャル薄膜（エピタキシャル薄膜を有するサファイア基板）が提供される。サファイア基板が取り外されたエピタキシャル薄膜が提供される。処理されたサファイア基板及び／又はエピタキシャル薄膜を備えるデバイス、装置又は中間製品が提供される。
技術概要
サファイア基板の表面を処理する方法であって、
サファイア基板を提供すること；及び
前記サファイア基板に対して、水蒸気を含む雰囲気で、熱処理を行うこと；
を備える方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
