目的
薄膜堆積方法及び薄膜堆積装置に関し、特に固体基材上に金属酸化物薄膜を低
温でかつ均一の厚さで形成する。
効果
金属酸化膜を形成する際に、被膜の膜厚のばらつきを抑える効果をもちたらす。
技術概要
固体部材上に酸化薄膜を形成する方法であって、
反応容器内に前記固体部材を設置し、固体部材の温度を、０℃より高く、１５０℃以下に保持し、反応容器内に有機金属ガスを充満させる工程と、前記有機金属ガスを排気するかあるいは反応容器内を不活性ガスで充満させる工程と、活性度が高められた酸化ガスを導入する工程と、前記酸化ガスを排気するかあるいは反応容器内を不活性ガスで充満させる工程とからなる、一連の工程を繰り返す薄膜堆積方法において、
酸化ガス発生装置と反応容器を接続する直線状の接続管内部に突出して設けられた遮蔽板によって、接続管内部の流路を屈曲させ、
前記活性度が高められた酸化ガスを、前記接続管を介して、反応容器に導入することにより、
前記活性度が高められた酸化ガスのみを通し、活性度を高めるプラズマからの紫外光や高速イオンを反応容器に導入しないことを特徴とした薄膜堆積方法。
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