目的
非線形光学用積層体を歩留まり良く製造することが可能である、非線形光学用積層体の製造方法を提供する。
効果
非線形光学用積層体を歩留まり良く製造することが可能である、非線形光学用積層体の製造方法を提供することが可能になる。
技術概要
目的基板と、前記目的基板上に位置する電気光学ポリマー層と、を備える、非線形光学用積層体の製造方法であって、
支持基板、光吸収層、第１電極、電気光学ポリマー層、および第２電極がこの順で積層された、第１積層体を準備する第１工程と、
前記第１積層体の前記電気光学ポリマー層に対しポーリング処理を実行する、第２工程と、
前記第１積層体から前記第２電極を除去することにより、第２積層体を得る、第３工程と、
前記目的基板を、前記第２積層体における前記第２電極と接していた面上に積層することにより、第３積層体を得る、第４工程と、
前記第３積層体から、前記支持基板をレーザー剥離することで、前記支持基板を除去することにより、第４積層体を得る、第５工程と、
前記第４積層体から、前記光吸収層および前記第１電極を除去することにより、非線形光学用積層体を得る、第６工程と、をこの順で含む、非線形光学用積層体の製造方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
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