目的
イオン源によるイオンビームのエミッタンスを正確に決定するための改善された測定手法を提供する。
効果
イオン源のエミッタンスを高い精度で決定することができる。
技術概要
開口の配列が設けられたマスク面をもつペッパーポットマスクと、２次元強度測定のためのイメージング検出器のスクリーン面とをイオン源からの検出ビームの経路にある距離を隔てて配置して、ペッパーポットマスク越しにスクリーン面に向けて検出ビームを照射する照射ステップと、
照射ステップを継続しながら距離を変更してスクリーン面上の各位置の強度を測定することにより、各距離においてスクリーン面上のスクリーン座標の各座標値における強度を示す距離別画像データを得て距離別画像記録部に格納する測定ステップと、
マスク面上のマスク座標の各座標値と、スクリーン座標の各座標値と、各距離の値とによりアドレス指定可能な強度データを記録する強度記録部を利用して、スクリーン座標の各座標値と開口との対応関係をオプティカルフロー法による移動ベクトルに基づいて修正する対応修正ステップと、
対応修正ステップにより決定されたマスク座標とスクリーン座標との対応関係にしたがって、マスク座標の各成分について、各成分と各成分の傾斜角とがなす位相空間における強度分布を強度記録部の強度データから算出する位相空間分布算出ステップと
を含むイオン源の特性測定方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
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