粒子線入射装置

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開放特許情報番号：L2025000738 開放特許情報登録日：2025/6/18 最新更新日：2025/6/18

基本情報

出願番号

特願2022-195070

公開番号

特開2024-081435

出願日

2022/12/6

公開日

2024/6/18

出願人

国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構

権利化状況

権利化前

発明の名称

粒子線入射装置

開放特許情報

技術分野

電気・電子

機能

機械・部品の製造

適用製品

粒子線入射装置

目的

簡単な構成でイオン蓄積量を増大できる、粒子線入射装置を提供する。

効果

簡単な構成でイオン蓄積量を増大できる、粒子線入射装置を提供できる。

技術概要

円型加速器にイオンビームを入射する粒子線入射装置において、
イオンを生成するイオン源と、
前記イオン源から入射されたイオンビームを前記円型加速器まで導くビームダクトと、
前記ビームダクト内における前記イオンビームの通過領域に設けられ、前記イオンビームを散乱させる薄膜本体を有する薄膜部を備えた
粒子線入射装置。

イメージ図

実施実績　　　：

無

許諾実績　：

無

特許権譲渡　　：

否

特許権実施許諾：

可

登録者情報

登録者名称

国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構

その他の情報