磁場測定方法及び磁場測定装置

開放特許情報番号：L2025000723 開放特許情報登録日：2025/6/16 最新更新日：2025/6/16

基本情報

出願番号

公開番号

出願日

2023/9/4

公開日

2025/3/14

出願人

国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構

権利化状況

権利化前

発明の名称

磁場測定方法及び磁場測定装置

開放特許情報

技術分野

情報・通信

機能

機械・部品の製造検査・検出

適用製品

磁場測定方法及び磁場測定装置

目的

磁場の強度を精度良く検出することができ、且つ、安価に実現することが可能な磁場測定技術を提供する。

効果

磁場の強度を精度良く検出することができ、且つ、安価に実現することが可能な磁場測定技術を提供することができる。

技術概要

励起光を照射したときにＳｉＣ結晶中のＳｉ空孔が発する蛍光を検出する検出工程と、
前記Ｓｉ空孔に印加された磁場であって、前記ＳｉＣ結晶のｃ軸に垂直な磁場の強度を、前記検出工程にて検出された前記蛍光の強度を参照して導出する導出工程と、を含む、
磁場測定方法。

イメージ図

実施実績　　　：

無

許諾実績　：

無

特許権譲渡　　：

否

特許権実施許諾：

可

登録者情報

登録者名称

その他の情報