透過型電子顕微鏡による評価方法

開放特許情報番号:L2025000406 開放特許情報登録日:2025/4/22 最新更新日:2025/4/22

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2021/10/29
公開日
2023/5/16
出願人
株式会社東レリサーチセンター
特許権者
株式会社東レリサーチセンター
権利化状況
権利化済
発明の名称
透過型電子顕微鏡による評価方法
開放特許情報
技術分野
有機材料 無機材料
機能
検査・検出 表面処理
適用製品
単一の有機材料、複数の有機材料で構成される試料、有機材料と無機材料の混合試料
目的
超薄切片法、FIB法、あるいはイオンミリング法によって薄膜化した試料をダメージ層の発生を抑制しつつ、更なる薄膜化を行う方法を提供する。
効果
TEM観察用として薄膜化した試料を、ダメージ層の発生を抑制しつつ更なる薄膜化を行うことが可能である。またTEM測定において入射電子線の試料中での多重散乱の影響を抑制することが可能である。
技術概要
TEM観察用として超薄切片法、集束イオンビーム(以下、FIB)法、あるいはイオンミリング法によって薄膜化した試料について、TEM観察用メッシュごとガラス基板等に貼り付けた状態でガスクラスターイオンビーム(以下GCIB)を照射して更なる薄膜化処理をし、TEM測定を行う。
アピール内容
本発明によって、透過型電子顕微鏡評価において、従来技術では困難であった表面ダメージ層の生成を最小限に抑えた有機材料の極薄超薄切片試料の作製が実現でき、この切片試料を用いることで、入射電子線の試料中での多重散乱の影響を抑制することができる。特に高分解能TEM/STEM観察やEELS測定において、高品質なデータを取得可能になる。
本発明は高分解能TEM/STEM観察やEELS測定に限定されることはなく、TEM装置で実施する様々な測定手法に対して、高品質なデータの提供が可能となる。
具体的には、薄膜化された試料をGCIB法によってさらに厚みを薄くして、GCIBを照射した面に電子線を照射して測定する。GCIB照射によって、試料内部の相分離構造、結晶/非晶構造、または化学結合状態を変質させずに薄膜化することが可能となる。
実施実績   :
試作
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
実施権条件:
要相談
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
固定URLをクリップボードにコピーしました。
Copyright © INPIT Rights Reserved