超撥イオン液体基板、レーザー発振装置、ディスプレイ、レーザー発振装置の製造方法

開放特許情報番号:L2024002126 開放特許情報登録日:2024/12/3 最新更新日:2024/12/3

基本情報
出願番号
公開番号
出願日
2023/2/3
公開日
2024/8/16
出願人
国立大学法人 筑波大学
権利化状況
権利化前
発明の名称
超撥イオン液体基板、レーザー発振装置、ディスプレイ、レーザー発振装置の製造方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造
適用製品
超撥イオン液体基板、超撥イオン液体基板を備えるレーザー発振装置、レーザー発振装置を備えるディスプレイ、およびレーザー発振装置の製造方法
目的
不揮発性液体と蛍光色素とを含むイオン液体からなる液滴に印加する電場を調節することによって、液滴が発光するレーザー光のピークの強度を制御することができる超撥イオン液体基板、超撥イオン液体基板を備えるレーザー発振装置、レーザー発振装置を備えるディスプレイ、およびレーザー発振装置の製造方法を提供する。
効果
不揮発性液体と蛍光色素とを含むイオン液体からなる液滴に印加する電場を調節することによって、液滴が発光するレーザー光のピークの強度を制御することができる超撥イオン液体基板、超撥イオン液体基板を備えるレーザー発振装置、レーザー発振装置を備えるディスプレイ、およびレーザー発振装置の製造方法を提供することができる。
技術概要
導電性基板と、前記導電性基板の表面に形成された撥イオン液体膜と、を有する、超撥イオン液体基板であって、
不揮発性液体と蛍光色素とを含むイオン液体からなる液滴の前記撥イオン液体膜との接触角が140°以上である、超撥イオン液体基板。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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