適用製品
計算機合成ホログラム、位相ホログラム、立体ディスプレイ、ＡＲ／ＶＲディスプレイ、顕微鏡、光通信、レーザー加工等に用いられる、位相符号化パターン生成方法、および位相符号化パターンを用いる光分布生成装置
目的
装置の小型化および光利用効率の向上を図ることができるとともに、生成した光が、空間光変調器の不完全性に起因する不要な０次光と重なるのを回避することができ、かつ空間的な変化が大きい複素振幅分布であっても目的の複素振幅分布に対するずれ量を大幅に低減することができる位相符号化パターン生成方法、および位相符号化パターンを用いる光分布生成装置を提供する。
効果
装置の小型化および光利用効率の向上を図ることができるとともに、生成した光が、空間光変調器の不完全性に起因する不要な０次光と重なるのを回避することができ、かつ空間的な変化が大きい複素振幅分布であっても目的の複素振幅に対するずれ量を大幅に低減させることができる。
技術概要
生成したい所望の複素振幅分布の位相分布φ(x,y)と、
生成したい所望の複素振幅分布の振幅分布により決定づけられる位相分布θ(x,y)と、
離散的かつ階段状に変化する位相キャリアφ↓ｃ(x,y)と、
を加減算し、
この加減算した結果に、前記生成したい所望の複素振幅分布の振幅分布により決定づけられる位相分布θ(x,y)を乗算する、演算処理を行って、
位相符号化パターンを生成することを特徴とする位相符号化パターン生成方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
