適用製品
ホログラフィック光学系の設計方法及びホログラフィック光学系設計プログラム
目的
光学的に直列配置されている複数のホログラフィック光学素子を含み、かつ、複数のホログラフィック光学素子において生成されるゼロ次回折光が出力面に重畳することを防止し得るホログラフィック光学系を効率的に設計することができる、ホログラフィック光学系の設計方法及びホログラフィック光学系設計プログラムを提供する。
効果
複数のホログラフィック光学素子において生成されるゼロ次回折光が出力面に重畳することを防止し得るホログラフィック光学系を、効率的に設計することができる。
技術概要
ホログラフィック光学系モデル２１を用いたホログラフィック光学系の設計方法は、光学条件２０を受け付けるステップ（ステップＳ１）と、ホログラフィック光学系モデル２１を生成するステップ（ステップＳ２）と、複数のホログラフィック光学素子４４，４５の各々に初期位相分布を設定するステップ（ステップＳ３）と、ホログラフィック光学系モデル２１を機械学習するステップ（ステップＳ４）とを備える。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
