ナノ粒子含有膜の形成方法およびナノ粒子含有膜

開放特許情報番号：L2024001863 開放特許情報登録日：2024/10/18 最新更新日：2024/10/18

基本情報

出願番号

公開番号

登録番号

出願日

2012/9/13

公開日

2014/3/27

出願人

学校法人法政大学

特許権者

学校法人法政大学

権利化状況

権利化済

発明の名称

ナノ粒子含有膜の形成方法およびナノ粒子含有膜

開放特許情報

技術分野

金属材料

機能

材料・素材の製造

適用製品

ナノ粒子含有膜の形成技術

目的

ナノ粒子が基板から容易に剥離するのを抑制する。

効果

基板上にナノ粒子の層を形成したときに、従来方法と比べてナノ粒子が基板から容易に剥離するのを抑制することができる。

技術概要

基板に前記基板より融点が低い材料の第１層を形成する工程と、
前記第１層の上層にナノ粒子の層を形成する工程と、
前記第１層を溶融し、前記第１層を構成する材料中に前記ナノ粒子が固定された膜とする熱処理工程と
を有するナノ粒子含有膜の形成方法。

イメージ図

実施実績　　　：

無

許諾実績　：

無

特許権譲渡　　：

否

特許権実施許諾：

可

登録者情報

登録者名称

法政大学

その他の情報