積層型撮像素子およびその製造方法

開放特許情報番号:L2024001830 開放特許情報登録日:2024/10/8 最新更新日:2024/10/8

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2020/8/3
公開日
2022/2/16
出願人
日本放送協会
特許権者
日本放送協会
権利化状況
権利化済
発明の名称
積層型撮像素子およびその製造方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
材料・素材の製造
適用製品
有機光電変換膜を用いた積層型の撮像素子とその製造方法
目的
有機光電変換膜が、積層プロセスでパターニングを行う場合に用いられる薬品等によりダメージを受けることなく、かつ、特性に優れた酸化物半導体であるTFTの形成に必要な高温プロセスを行う際に有機光電変換膜に強い歪が生じるのを防止して、有機光電変換膜の特性劣化および膜剥がれを防止し得る、積層型撮像素子およびその製造方法を提供する。
効果
従来の貫通電極を形成する場合に生じていた有機光電変換膜の特性劣化を抑制しつつ、有機光電変換膜(光電変換部)の剥離を防止することが可能となり、良好な積層型撮像素子を実現することができる。
技術概要
上方からの光を受光し得る回路基板の上方位置に、受光した該光を光電変換し得る、規則的に配列された画素に対応して形成された有機光電変換膜を画素電極と共通電極とで挟持してなる光電変換部を少なくとも1つ備えた積層型撮像素子であって、
前記少なくとも1つの光電変換部が、当該光電変換部で生じた電荷を独立に読出す画素信号読出部を備え、
前記少なくとも1つの光電変換部において、前記有機光電変換膜を平面内で分離する壁構造を有し、
前記壁構造が、前記画素中の撮像領域である画素領域の外周に位置する非画素領域に形成されていることを特徴とする積層型撮像素子。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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