適用製品
分析方法、及び分析システムに関し、特にランダムなマスクパターンを用いて対象物を分析する技術
目的
対象物の分析の高速化を図ることのできる分析方法、及び分析システムを提供する。
効果
対象物の分析の高速化を図ることができる、という利点がある。
技術概要
光源が発する光を位相変調し、
変調した前記光を散乱体に通過させることでスペックルパターンに変換し、前記スペックルパターンを対象物に出力し、
前記対象物からの反射光を処理することで前記反射光に基づく時間領域信号を取得し、
取得した前記時間領域信号に基づいて、前記対象物を分析する、
分析方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
