適用製品
透過配置におけるＸ線吸収分光分析（ＸＡＳ）及び蛍光配置における蛍光Ｘ線分光分析（ＸＲＦ）を同時に行うことを可能にするための方法およびシステム
目的
従来の小型汎用型Ｘ線吸収分光装置と同じ程度の設備でありながら、透過配置におけるＸ線吸収分光分析と蛍光配置における蛍光Ｘ線分析とを同時に行うことで、サンプルのＸ線照射位置を厳密に一致させて、動的な変化の過程を観察することができる方法およびシステムを提供する。
効果
従来の小型汎用型Ｘ線吸収分光装置と同じ程度の設備でありながら、透過配置におけるＸ線吸収分光分析と蛍光配置における蛍光Ｘ線分析とを同時に行うことでき、サンプルのＸ線照射位置をＸ線吸収分光と蛍光Ｘ線分光分析とで厳密に一致させて、測定対象物を観察することができる。
技術概要
透過配置におけるＸ線吸収分光と蛍光配置における蛍光Ｘ線分光分析を同時に実施するための方法であって、
元素の吸収端に対応するエネルギーよりも高く且つ前記エネルギーを含むエネルギー帯域幅を有するＸ線ビームを対象物に照射することと、
空間分解Ｘ線検出装置を用いて、３ｅＶよりも高いエネルギー分解能で、前記吸収端を含むエネルギー帯域幅に亘って、前記対象物からＸ線吸収スペクトルを取得することと、
蛍光Ｘ線検出装置を用いて、前記対象物から散乱したＸ線を検出して蛍光Ｘ線スペクトルを取得することと、
を備える方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
