表面修飾多孔質膜の製造方法

開放特許情報番号:L2024000855 開放特許情報登録日:2024/4/17 最新更新日:2024/4/17

基本情報
出願番号
公開番号
出願日
2022/5/26
公開日
2023/12/7
出願人
学校法人 工学院大学
権利化状況
権利化前
発明の名称
表面修飾多孔質膜の製造方法
開放特許情報
技術分野
機械・加工
機能
材料・素材の製造
適用製品
表面修飾多孔質膜の製造方法
目的
ファウリングが抑制される多孔質膜を大面積でも簡便に製造することができる表面修飾多孔質膜の製造方法を提供する。
効果
ファウリングが抑制される多孔質膜を大面積でも簡便に製造することができる表面修飾多孔質膜の製造方法が提供される。
技術概要
多孔質構造を有する膜素材を、水及びオゾンを含む第1処理液に浸漬する第1処理工程と、
前記膜素材を前記第1処理液から取り出し、原子移動ラジカル重合開始剤を含む第2処理液に浸漬する第2処理工程と、
前記膜素材を前記第2処理液から取り出し、水、2−メトキシエチルアクリレート、還元剤、配位子、及び触媒を含む第3処理液に浸漬して前記膜素材にポリ(2−メトキシエチルアクリレート)を固定する第3処理工程と、
を含む表面修飾多孔質膜の製造方法。
アピール内容
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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