目的
基材との密着性に優れた金属膜を簡易に形成しうる金属膜形成用組成物を提供する。
基材との密着性に優れた金属膜を簡易に形成しうる金属膜形成方法を提供する。
効果
基材との密着性に優れた金属膜を簡易に形成しうる金属膜形成用組成物を提供することができる。
また、基材との密着性に優れた金属膜を簡易に形成しうる金属膜形成方法を提供することができる。
技術概要
一般式（１）または（２）で表される金属錯体と、金属錯体の対アニオンと、金属錯体の溶剤とを含み、金属錯体の対アニオンは、カルボン酸の錯体、アミノポリカルボン酸の錯体、アミノ酸化合物の錯体からなる群より選択される化合物に由来する対アニオンの少なくとも１種を含み、金属錯体の対アニオンは金属錯体が含む金属原子と同一の金属原子を含む、金属膜形成用組成物。
【化１】
一般式（１）中、Ｍ↑１は、Ｃｕを表す。Ｌ↑（１１）およびＬ↑（１２）は、独立にＮＨ↓３配位子、Ｒ↑１ＮＨ↓２配位子、ＯＨ↓２配位子、ジアミン由来の配位子を表し、Ｒ↑１はアルキル基を表す。1nおよび1ｍは、独立に０〜８の整数を表し、1ｎ＋1ｍは、４〜８の範囲であり、Ｍ↑１で表される金属原子の価数に応じて決定される整数を表す。
一般式（２）中、Ｍ↑２は、Ａｇを表す。Ｌ↑（２１）およびＬ↑（２２）は、独立にＮＨ↓３配位子、Ｒ↑１ＮＨ↓２配位子、ＯＨ↓２配位子、ジアミン由来の配位子を表し、Ｒ↑１はアルキル基を表す。2nおよび2ｍは、独立に０〜４の整数を表し、2ｎ＋2ｍは、２〜４の範囲であり、Ｍ↑２で表される金属原子の価数に応じて決定される整数を表す。
基本情報
開放特許情報
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