適用製品
六ホウ化ランタン（ＬａＢ６）焼結体、スパッタリングターゲット
目的
高純度で緻密であって、結晶性に優れ、かつ仕事関数の良好なＬａＢ6薄膜の製造用のスパッタリングターゲットなどとして好適なＬａＢ6焼結体、それを用いてなるターゲット、前記ターゲットを用いて製膜された六ホウ化ランタン膜、及び前記ＬａＢ6焼結体の効果的な製造方法を提供する
効果
高純度で緻密であって、結晶性に優れ、かつ仕事関数の良好なＬａＢ6薄膜の製造用のスパッタリングターゲットなどとして好適なＬａＢ6焼結体、それを用いてなるターゲット、前記ターゲットを用いて製膜された六ホウ化ランタン膜、及び前記ＬａＢ6焼結体の効果的な製造方法を提供する
技術概要
本発明は、六ホウ化ランタン（ＬａＢ6）焼結体、それを用いたターゲット、六ホウ化ランタン膜、及び前記ＬａＢ6焼結体の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、高純度で緻密であって、結晶性に優れ、かつ仕事関数の良好なＬａＢ6薄膜製造用のスパッタリングターゲットなどとして好適なＬａＢ6焼結体、それを用いてなるターゲット、前記ターゲットを用いて製膜された六ホウ化ランタン膜、及び前記ＬａＢ6焼結体の効果的な製造方法に関するものである。
基本情報
開放特許情報
登録者情報
その他の情報
