適用製品
有機ＥＬ素子やＬＣＤ等を駆動するために用いられる薄膜トランジスタ等の電子デバイスを構成する塗布型金属酸化物膜の製造方法
目的
塗布製法を用いて金属酸化物膜を作成する際に、より簡易な製造プロセスにより形状にばらつきのない金属酸化物膜を形成し得る、大面積化も可能な、キャリア移動度等の特性に優れた塗布型金属酸化物膜の製造方法を提供する。
効果
塗布型金属酸化物膜の製造方法においては、金属塩からなる無機酸塩を、過酸化水素を含有する溶媒に溶解して、水溶性金属酸化物の前駆体溶液を生成しているので、塗布された金属酸化物膜の溶媒中の過酸化水素が、紫外光などのエネルギー線を照射されることによって、ヒドロキシルラジカルへの分解反応を起こし、酸化力の強い活性酸素種が発生する。これにより金属酸化物膜を酸化する程度が強力となり、この金属酸化物膜を備えた電子デバイスにおいて、キャリア移動度を大幅に高めることが可能となった。
技術概要
金属塩からなる無機酸塩を、過酸化水素が所定の重量割合を占める溶媒に溶解して水溶性の金属酸化物の前駆体溶液を生成する前駆体溶液生成工程と、
前記前駆体溶液生成工程において生成された前記前駆体溶液を所定の被塗布体上に塗布する前駆体塗布工程と、
前記前駆体塗布工程で前記所定の被塗布体上に塗布された前記金属酸化物の前駆体溶液の所定領域にエネルギー線を照射し、該所定領域を酸化させて金属酸化物膜を生成する金属酸化物膜生成工程と、
前記金属酸化物膜生成工程において生成された前記金属酸化物膜をパターニングするエッチング工程と、
を有することを特徴とする塗布型金属酸化物膜の製造方法。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
