真空排気方法

開放特許情報番号:L2023000415 開放特許情報登録日:2023/5/11 最新更新日:2025/1/24

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2021/7/28
公開日
2023/2/9
出願人
国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
特許権者
国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
権利化状況
権利化済
発明の名称
真空排気方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
表面処理
適用製品
コーティング方法
目的
コーティング層の剥離が発生しにくいコーティング方法を提供する。
効果
コーティング層の剥離が発生しにくいコーティング方法を得ることができる。
技術概要
部材、電極の少なくともいずれかに電圧を印加して、前記部材の表面に前記電極の表面である電極面を構成する材料である電極材で構成されたコーティング層を形成するコーティング方法において、
不活性ガス雰囲気下で前記電極を正側、前記部材を負側の電位として、前記電極と前記部材との間にDC放電を発生させる第1の工程と、
前記第1の工程の後に不活性ガス雰囲気下で前記電極を負側、前記部材を正側の電位として、前記電極と前記部材との間にDC放電を発生させる第2の工程と、
を有することを特徴とするコーティング方法。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
登録者名称
国立研究開発法人日本原子力研究開発機構
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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