目的
装置への外乱や内部の機械的誤差等の影響を小さく抑えることができる分光特性測定装置を提供する。また、被検部位の周辺に光学的攪乱要素が存在する場合、また逆に空間的変化が少ない（空間周波数が低い）場合、共に該被検部位の分光特性を正しく取得することができる分光特性測定装置を提供する。
効果
テクスチャーがほとんど無い試料からでも高次回折光を生じさせることができ、干渉光を得ることができる。また、共役面に形成される実像に一定の空間的周期性を重畳させることができるため、フーリエ変換面上での光量分布に及ぼす被測定物の測定点のテクスチャーの影響をなくすことができる。
技術概要
a) 被測定物の測定領域内に位置する複数の測定点からそれぞれ発せられた測定光束を第１の測定光束及び第２の測定光束に分割する分割光学系と、
b) 前記第１の測定光束及び前記第２の測定光束を干渉させる結像光学系と、
c) 前記第１の測定光束及び前記第２の測定光束の間に連続的な光路長差分布を与える光路長差付与手段と、
d) 前記干渉光の光強度を検出する干渉光検出部と、
e) 前記干渉光検出部で検出される前記干渉光の光強度に基づき、前記被測定物の測定点のインターフェログラムを求め、このインターフェログラムをフーリエ変換することによりスペクトルを取得する処理部と、
f) 前記被測定物と前記分割光学系の間に配置された、該分割光学系と共通の共役面を有する共役面結像光学系と、
g) 前記共役面に配置され、前記複数の測定点から発せられた測定光束の間に周期性を付与する周期性付与手段と
を備えることを特徴とする分光特性測定装置。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
