目的
外乱の影響を抑えて測定対象の分光特性をを高精度に測定することができる分光特性測定装置及び分光特性測定方法を提供する。
効果
測定光と同様に参照光を入射光学系によって固定反射部と可動反射部に入射させ、これらの反射部によって２つの反射光に分割して干渉光を形成させ、この干渉光強度変化の振幅と位相差に基づき測定光のインターフェログラムを補正するようにしたため、測定光の分光特性を精度良く求めることができる。
技術概要
固定反射部及び可動反射部と、
測定対象から発せられた測定光を固定反射部と可動反射部に入射させる入射光学系と、
固定反射部によって反射された測定光と可動反射部によって反射された測定光の干渉光を形成する結像光学系と、
測定光の干渉光強度を検出する測定光検出部と、
可動反射部を移動させることにより得られる測定光の干渉光強度変化に基づき測定光のインターフェログラムを求める処理部と、
測定光の波長帯域の一部である狭帯域の波長の参照光を、入射光学系を通して固定反射部と可動反射部に入射させる参照光入射手段と、
固定反射部によって反射された参照光と可動反射部によって反射された参照光の、結像光学系によって形成される干渉光強度を検出する参照光検出部と、
可動反射部を移動させることにより参照光検出部で検出される参照光の干渉光強度変化の振幅、及び測定光のうち参照光と同じ波長の測定光と参照光の位相差に基づき測定光のインターフェログラムを補正し、補正後のインターフェログラムに基づき測定光のスペクトルを求める演算処理部と
を備えることを特徴とする分光特性測定装置。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
