レーザ装置及びこれに使用可能な装置

開放特許情報番号:L2022000600 開放特許情報登録日:2022/4/21 最新更新日:2024/5/22

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2015/6/23
公開日
2017/1/12
出願人
国立研究開発法人理化学研究所
特許権者
国立研究開発法人理化学研究所
権利化状況
権利化済
発明の名称
レーザ装置及びこれに使用可能な装置
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造
適用製品
レーザ装置及びこれに使用可能な装置
目的
低周波数のレーザパルス光を出力するレーザ装置において、非特許文献1とは異なる手段により、出力レーザパルス光のCEP変動を補償できるレーザ装置を提供する。
また、出力レーザパルス光のCEP変動を補償できるレーザ装置に使用可能な参照光生成装置、CEP測定装置、および補償装置を提供する。
効果
出力用パルス光(増幅パルス光)の第2周波数ではなく、これよりも高い中間周波数の参照パルス光のCEPに基づいて調整がなされるので、出力用パルス光(増幅パルス光)の周波数が低くても、より高い周波数の参照パルス光に基づいて、出力用パルス光のCEPの変動を補償することができる。
また、レーザ装置から出力されるレーザパルス光と同じ経路を通ったものである。すなわち、参照パルス光は、第2増幅装置内を通過したものである。よって、第2増幅装置に要因があるCEPの変動も補償することができる。
技術概要
パルス光を生成する発振器と、
発振器からのパルス光を増幅することにより、第1周波数で繰り返されるパルス光の第1パルス列を生成する第1増幅装置と、
第1周波数よりも低い第2周波数で第1パルス列に対して増幅を行うことにより第1パルス列を第2パルス列に変える第2増幅装置とを備え、
第2パルス列は、第2増幅装置により増幅され第2周波数で繰り返される相対的に低頻度の増幅パルス光と、低頻度の増幅パルス光よりも強度が低く相対的に高頻度の非増幅パルス光とが混在した、第1周波数で繰り返されるパルス光のパルス列であり、
第1周波数よりも低く第2周波数よりも高い中間周波数で第2パルス列から参照パルス光を抽出することにより、中間周波数で繰り返される該参照パルス光の参照パルス列を生成する参照光生成装置と、
参照パルス列が入射され参照パルス列の参照パルス光のCEPを測定するCEP測定器と、
測定されたCEPに基づいて、前記増幅パルス光のCEPの変動を補償する調整を行う調整装置を備える、ことを特徴とするレーザ装置。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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