適用製品
マイクロ・ナノ構造体の製造方法及びマイクロ・ナノ構造体
目的
各種の電子的用途への使用が期待できる新規なマイクロ・ナノ構造体の製造方法及びこの製造方法により製造されたマイクロ・ナノ構造体を提供する。
効果
アスペクト比が大きく先端が細いので、形態が特異であることに基づき、半導体材料、電気接点材料、触媒材料等の導電的特性、又は半導体的特性を活かした多岐の用途への使用が期待される。また、本発明に係るマイクロ・ナノ構造体は、Ｃｕ↓２Ｏの持つバンドギャップ値Ｅｇ２．０ｅＶという半導体特性の利用、ナノチューブ化による金属・絶縁体化、ナノチューブの内部に元素、化合物を入れることによる特性の自由な調整を行い得る可能性がある。
技術概要
１０↑（−３）〜１０↑（-５）ａの低真空中で金属銅の表面に高エネルギービームを照射して、励起した銅原子と低真空中に残留する酸素原子とを結合させつつ、自己組織化によって、内部が中空なナノチューブを製造することを特徴とするマイクロ・ナノ構造体の製造方法。
基本情報
開放特許情報
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登録者情報
その他の情報
