空間光変調器および空間光変調器の製造方法

開放特許情報番号:L2021001585 開放特許情報登録日:2021/11/2 最新更新日:2021/11/2

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2016/7/27
公開日
2018/2/1
出願人
日本放送協会
特許権者
日本放送協会
権利化状況
権利化済
発明の名称
空間光変調器および空間光変調器の製造方法
開放特許情報
技術分野
情報・通信 電気・電子
機能
機械・部品の製造
適用製品
空間光変調器および空間光変調器の製造方法
目的
製造工程が簡素である空間光変調器および空間光変調器の製造方法を提供する。
効果
接合のためのパターニングが不要であり、製造工程を簡素化、短縮することができる。
技術概要
第1基板と第2基板とを接合層を介して接合した空間光変調器であって、
第1基板は、矩形に形成された第1基体と、第1基体上で対向する辺に向かって形成された複数の第1電極と、隣り合う第1電極間を絶縁する第1絶縁層と、を備え、表面には第1電極によって縞状のパターンが形成されており、
第2基板は、矩形に形成された第2基体と、第2基体上に第1電極と交差する方向に形成された複数の第2電極と、第2電極上で第1電極と交差する交点に当該第2電極から突出して2次元配列された複数の光変調素子と、隣り合う第2電極間および隣り合う光変調素子間を絶縁すると共に2次元配列された各光変調素子の一部が第1基板側に突出するように形成された第2絶縁層と、を備え、表面には光変調素子によって2次元配列の凸形状パターンが形成されており、
接合層は、第1基板の表面に成膜された第1金属膜と、第2基板の表面に成膜された第2金属膜と、を備え、突出した各光変調素子の一部により当該第1金属膜と当該第2金属膜との接合部が形成されると共に、接合部以外の当該接合層の表面部分が酸化膜として形成されることを特徴とする空間光変調器。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
固定URLをクリップボードにコピーしました。
Copyright © INPIT Rights Reserved