半導体装置、パワーデバイスおよび制御用電子装置

開放特許情報番号:L2021001031 開放特許情報登録日:2021/8/6 最新更新日:2023/1/26

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2019/3/26
公開日
2020/10/1
出願人
国立研究開発法人物質・材料研究機構
特許権者
国立研究開発法人物質・材料研究機構
権利化状況
権利化済
発明の名称
半導体装置、パワーデバイスおよび制御用電子装置
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造
適用製品
半導体装置、パワーデバイスおよび制御用電子装置
目的
キャリア移動度が高く、急峻なオン/オフ特性などスイッチング特性が優れ、かつゲートリーク電流が少ない半導体装置、およびそれらの諸特性に加えてノーマリーオフ動作に好適な半導体装置を提供する。また、キャリア移動度が高く、急峻なオン/オフ特性などスイッチング特性が優れ、ゲートリーク電流が少なく、ノーマリーオフ動作に好適なパワーデバイスおよび制御用電子装置を提供する。
効果
キャリア移動度が高く、急峻なオン/オフ特性などスイッチング特性が優れ、かつゲートリーク電流が少ない半導体装置、またそれらの諸特性に加えてノーマリーオフ動作に好適な半導体装置を提供することが可能になる。
また、キャリア移動度が高く、急峻なオン/オフ特性などスイッチング特性が優れ、ゲートリーク電流が少なく、ノーマリーオフ動作に好適なパワーデバイスおよび制御用電子装置を提供することが可能になる。
技術概要
第1の主表面にチャネルが形成されている半導体層、前記第1の主表面に接して前記半導体層とショットキー接合をなすショットキー金属層、およびインピーダンスを有する緩衝膜を介して前記ショットキー金属層と少なくとも一部に対向して配置されるゲート電極を有し、
前記ショットキー金属層が電気的に浮遊している、半導体装置。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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