不均一系フェントン反応触媒

開放特許情報番号：L2021000867 開放特許情報登録日：2021/6/30 最新更新日：2023/3/24

基本情報

出願番号

公開番号

登録番号

出願日

2019/2/5

公開日

2020/8/20

出願人

学校法人　関西大学

特許権者

学校法人　関西大学

権利化状況

権利化済

発明の名称

不均一系フェントン反応触媒

開放特許情報

技術分野

機械・加工化学・薬品

機能

材料・素材の製造

適用製品

不均一系フェントン反応触媒等

目的

不均一系フェントン反応触媒を提供する。

効果

不均一系フェントン反応触媒を提供することができる。また、均一系フェントン反応に匹敵する或いはそれを上回る効率の不均一フェントン反応が可能な触媒を提供することができる。
不均一系フェントン反応触媒を利用した、ラジカル生成方法、有機物分解方法等を提供することもできる。

技術概要

2価鉄イオン、3価金属イオン、及びアニオンを含有する層状複水酸化物並びに／又は非晶質な複合水酸化物を含む、不均一系フェントン反応触媒。

イメージ図

実施実績　　　：

無

許諾実績　：

無

特許権譲渡　　：

否

特許権実施許諾：

可

登録者情報

登録者名称

関西大学

その他の情報