ヘテロ元素含有グラフェン

開放特許情報番号:L2021000088 開放特許情報登録日:2021/1/20 最新更新日:2024/3/26

基本情報
出願番号
公開番号
WO2019/066013
登録番号
出願日
2018/9/28
公開日
2019/4/4
出願人
国立研究開発法人科学技術振興機構
特許権者
国立研究開発法人科学技術振興機構
権利化状況
権利化済
発明の名称
ヘテロ元素含有グラフェン
開放特許情報
技術分野
化学・薬品 無機材料
機能
材料・素材の製造
適用製品
扁平な形状を示し、透明なP型半導体としての性質を示すヘテロ元素含有グラフェン
目的
ドープする窒素の量が増えてもグラフェンシートの平坦性を維持でき、透明で、結晶性の高いヘテロ元素含有グラフェンを提供する。
効果
ドープする窒素の量が多くても、グラフェンシートの平坦性を維持でき、結晶性が高い。このため、良好な半導体特性や触媒特性を示すことが期待され、効率的に製造することができる。
技術概要
制限視野電子回折において、直方晶系および六方晶系のいずれかに属し、単結晶の対称性を備えるスポットが観測され、
炭素(C)と、ヘテロ元素(X)として窒素(N)、リン(P)、ヒ素(As)、イオウ(S)、ホウ素(B)、およびケイ素(Si)からなる群から選択される少なくとも1種の元素と、を含むヘテロ元素含有グラフェン。
アピール内容
関連する技術資料は以下のURLにおいて掲載しています。
https://www.jst.go.jp/chizai/news/oshigijutsu34.html
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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