半導体装置とその製造方法および光電変換装置

開放特許情報番号:L2020002638 開放特許情報登録日:2020/12/25 最新更新日:2023/4/26

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2018/9/3
公開日
2020/3/12
出願人
国立大学法人 筑波大学
特許権者
国立大学法人 筑波大学
権利化状況
権利化済
発明の名称
半導体装置とその製造方法および光電変換装置
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
機械・部品の製造
適用製品
半導体装置とその製造方法および光電変換装置
目的
基材の大きさによらず、低コストで形成することが可能であり、かつ光電変換装置に適用可能な品質を有する半導体膜を備えた、半導体装置とその製造方法および光電変換装置を提供する。
効果
機能層を構成する半導体膜を、基材の大きさによらず、また、単結晶の高価な基材を用いない分、低コストで形成することが可能である。
技術概要
非晶質の基材と、
前記基材の一面に形成され、Geを主成分とする第一結晶粒子を複数含む下地層と、
前記下地層の上に形成され、前記第一結晶粒子の−2%以上2%以下の格子定数を有する第二結晶粒子を複数含む機能層と、を備え、
前記第二結晶粒子の平均粒径が1μm以上であることを特徴とする半導体装置。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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