目的
ヒータケースが熱膨張した場合にヒータケース及びそれを支持する支持部に作用する応力を抑制することが可能な気相成長装置及び気相成長用加熱装置を提供する。
効果
ヒータを覆うケースが熱膨張した場合にケース及びそれを支持する支持部に作用する応力を抑制することができる。
技術概要
基板の少なくとも一方の面に気相成長により堆積物を形成可能なように前記基板を支持する盤状のサセプタと、
前記サセプタの一方の面に対して対向する位置に配置され、前記サセプタを加熱するヒータと、
前記ヒータを覆うヒータケースと、
前記ヒータケースを支持する複数の支持部と、
を備え、
前記ヒータケースは、前記ヒータと対向して配置された面状の対向部を有し、
前記対向部には、前記複数の支持部の各々と対応する貫通穴が形成され、
前記複数の支持部は、それぞれ対応する前記貫通穴を貫通しているとともに、前記対向部における前記貫通穴の周囲縁部を支持しており、
前記貫通穴の各々は、前記対向部の面直方向に前記ヒータケースを見たときの前記ヒータケースの外形線上の一点から、前記外形線に囲まれる形状の重心へ向かう方向へと、前記支持部が相対的に移動することを許容する形状に形成されている気相成長装置。
基本情報
開放特許情報
)
登録者情報
その他の情報
