半導体発光素子およびその製造方法

開放特許情報番号:L2020001797 開放特許情報登録日:2020/9/9 最新更新日:2020/9/9

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2013/3/28
公開日
2014/10/6
出願人
国立大学法人豊橋技術科学大学
特許権者
国立大学法人豊橋技術科学大学
権利化状況
権利化済
発明の名称
半導体発光素子およびその製造方法
開放特許情報
技術分野
電気・電子
機能
材料・素材の製造
適用製品
半導体発光素子およびその製造方法
目的
p型層を除去することなくn側電極を形成することにより、プレーナ型の電構造を有する発光素子を提供するとともに、その製造方法を提供する。
効果
p型層および発光層を除去することなくn側電極を形成させることができることから、プレーナ型の電極構造とすることができ、バンプ等を形成することなくp側電極と同じ高さのn側電極を設けることができる。従って、フリップチップ型の発光素子とする場合において、実装基板等との接合状態を良好にすることができる。
技術概要
成長基板上に、n型層、発光層およびp型層を成長させる成長工程と、
チャネリング条件下においてp型層の表面からn型層に到達する範囲にn型不純物としてシリコンをイオン注入するチャネリング工程と、
前記チャネリング工程によりn型不純物としてシリコンイオンが注入された領域を、アンモニアを含む雰囲気中でアニールすることによりn型化するアニール工程と、
前記アニール工程によりn型化された領域の表面にn側電極を接続するn側電極構成工程と
を含むことを特徴とする窒化物半導体発光素子の製造方法。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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