プラズモン特性を有する窒化チタン膜及びその製造方法

開放特許情報番号：L2020000500 開放特許情報登録日：2020/3/6 最新更新日：2023/12/19

基本情報

出願番号

公開番号

登録番号

出願日

2017/11/9

公開日

2019/6/6

出願人

国立研究開発法人物質・材料研究機構

特許権者

国立研究開発法人物質・材料研究機構

権利化状況

権利化済

発明の名称

プラズモン特性を有する窒化チタン膜及びその製造方法

開放特許情報

技術分野

金属材料

機能

材料・素材の製造

適用製品

プラズモン特性を有する窒化チタン膜及びその製造方法

目的

これまで報告されているものよりもさらに良好なプラズモン特性を有するＴｉＮ膜を提供する。

効果

可視光域から近赤外域まで金と類似したプラズモン特性を有する上に、高温でも使用できしかも多様な下地や基板上に形成可能なＴｉＮを得ることができる。

技術概要

連続し、無孔であって、表面粗さが１０ｎｍ（ｒ．ｍ．ｓ．）以下である、プラズモン特性を有する窒化チタン膜。

イメージ図

実施実績　　　：

無

許諾実績　：

無

特許権譲渡　　：

否

特許権実施許諾：

可

登録者情報

登録者名称

その他の情報