シリカ系中空粒子の製造方法

開放特許情報番号:L2019002195 開放特許情報登録日:2019/12/2 最新更新日:2019/12/2

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2008/8/22
公開日
2009/4/2
出願人
JSR株式会社
特許権者
JSR株式会社
権利化状況
権利化済
発明の名称
シリカ系中空粒子の製造方法
開放特許情報
技術分野
化学・薬品 無機材料
機能
材料・素材の製造
適用製品
シリカ系中空粒子の製造方法
目的
コア粒子の表面にシリカ系被覆層を形成する段階において、コア・シェル粒子同士の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供する。
効果
コア粒子の表面にシリカ系被覆層を形成する段階において、コア・シェル粒子同士の凝集を防ぐことができるので、分散安定性の高いコア・シェル粒子ないしシリカ系中空粒子分散体を製造することができる。
技術概要
あらかじめ疎水化処理されたコア粒子およびアニオン系界面活性剤を含有する水系媒体中で、下記一般式(1)で表される少なくとも1種の化合物を加水分解縮合させることにより、シリカ系被覆層を有するコア・シェル粒子を形成する工程、を含む、シリカ系中空粒子の製造方法。
R↑1↓dSi(OR↑2)↓4−d…(1)
(式中、R↑1、R↑2は独立して1価の有機基を表し、dは0〜3の整数を表す。)
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
活用のヒント
登録者情報
登録者名称
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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