プラズマを用いたサンプリング法およびサンプリング装置

開放特許情報番号:L2019001337 開放特許情報登録日:2019/9/16 最新更新日:2025/3/25

基本情報
出願番号
公開番号
登録番号
出願日
2009/12/28
公開日
2011/7/14
出願人
国立大学法人東京科学大学
特許権者
国立大学法人東京科学大学
権利化状況
権利化済
発明の名称
プラズマを用いたサンプリング法およびサンプリング装置
開放特許情報
技術分野
情報・通信 電気・電子
機能
機械・部品の製造
適用製品
サンプリング法およびサンプリング装置
目的
分析対象物を破壊することなく、試料を採取し、直接、分析装置に導入することができるとともに、分析精度を向上させることを可能とするプラズマを用いたサンプリング法およびサンプリング装置を提供する。
効果
分析対象物を破壊することなく、その表層部のごく一部のみを飛散させてサンプルガスとし、当該サンプルガスをガス流によって直接、分析装置に導入することができる。したがって、従来のような複雑な前処理を行う必要がないため、分析精度の高い、迅速な分析を行うことが可能となる。
技術概要
サンプリング室の開放部を、分析対象物の表面もしくは分析対象物が載置された載置台の表面に対して密着させることによって形成される大気圧近傍の閉空間内に、全体または一部が納められた分析対象物の表面に前記分析対象物が放電損傷することのないプラズマ温度が低温のプラズマを放出し、その表層部を蒸気または粒子として気相中に飛散させてサンプルガスとし、当該サンプルガスをプラズマの放出によって生じるガス流によって前記閉空間から導入手段を通して分析装置に導入することを特徴とするプラズマを用いたサンプリング法。
イメージ図
実施実績   :
許諾実績 :
特許権譲渡  :
特許権実施許諾:
登録者情報
その他の情報
関連特許
(国内):
(国外):
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